機械・精密機器メーカー

半導体成膜装置の成膜プロセス（レシピ）開発/在宅有

【ミッション】
〇エピタキシャル成長製造装置開発の成膜のプロセス開発を行っていただきます。

【具体的には】
〇エピタキシャル成長製造装置開発の成膜のプロセス開発を行っていただきます。
・シリコン、GaN、SiC膜の成膜方法（レシピ）の開発と測定機による評価
・装置の開発、客先でのデモンストレーション、メンテナンス、トラブル対応
・プロセスに関する客先でのプロセス仕様打合せ、装置立上、客先でのプロセス支援
※海外顧客の場合海外出張いただき、顧客先でレシピの調整を行います

〇エピタキシャル成長製造装置の特徴
①ウェーハの高速回転による高速かつ均一性の高い成膜
②緻密に設計された垂直方向のガスフローによる均一なガス濃度分布
③高精度な面状ヒーターに非接触で配置することで高い温度均一性と高速昇降温特性
上記コア技術が実現することで高品質エピタキシャル成長層の形成を可能としております。
プロセス担当はこれらコア技術が顧客要望通り実現しているかを測定器などを使用して検証し、エラーの原因はレシピなのかハードなどかを突き詰め改善を行っていきます。

【業務で使用するツール】
・プロセス
測定機操作　(SEM、欠陥検査、膜厚、XRD等）

【入社後お任せしたい業務】
・プロセス
上記業務内容を先輩社員がOJTでついて教育を行いながら、デモ機をもとに装置の扱い方やレシピの開発・調整方法をキャッチアップいただきます。

【組織構成】
組織構成：約30名
メンバーの半数以上がキャリア入社、20代・30代が6割を占めている組織となります
組織のミッション：
エピタキシャル半導体製造装置は現在国内外の顧客より多くの注文をいただいておりますがこの販売台数を最大化することがミッションとなっております。拡大のためには、顧客先ごとで成膜で使用するガスの種類が異なっているためがプロセスが異なるため、顧客ごとにニーズを満たすレシピの作成・プロセスを立ち上げることが重要となっております。
さらに今後はウェハーのサイズが大きくなることから、自動搬送のニーズが高まり、
自動搬送の機械設計・ソフトウェア設計が求められております。

【働き方】
・フレックス制度：業務に合わせて柔軟に利用可能
・リモートワーク：有　（週に約1日在宅勤務）
・部署の平均残業時間：約20時間／月
・海外出張：有　年に2～3回、出張期間は1か月～3か月

【企業の魅力】
同社は、世界トップシェアを獲得している電子ビームマスク描画装置（EBM）をはじめ、マスク検査装置、エピタキシャル成長装置の3製品を中心とした「半導体製造装置」の研究開発から製造、販売、保守まで手掛ける新進メーカーです。
海外売上比率80％以上と世界のグローバル最大手企業を顧客に事業展開を図っており、世界トップクラスの技術開発とモノづくりで、成長性や競争力に富む会社として市場から注目されている会社です。
■最先端技術の研究開発に力をいれており、技術に対して自由な雰囲気があります。
また、他社の追随を許さない高い技術力を維持するため、研究開発に大きな投資を続けており、研究開発費率22．6％と全製造業平均（4.81％）を大きく上回る比率であり、必要な開発提案であれば開発費注入はいとわず、常に最先端技術開発に携り主導的な開発を進める事ができる環境です
■また当社は事業的に独立しており、東芝グループ内の機能分担企業ではないため、独自の事業展開を進めることが可能です。